聚焦离子束悬浮微结构加工方法、其系统及悬浮微结构
知识产权简介
悬浮微结构通常采用半导体工艺实现,通过光刻、刻蚀工艺进行图形加工,通过湿法或干法刻蚀进行悬浮结构释放。整个工艺流程复杂,成品率往往受到工艺限制,特别是悬浮结构中图形在悬空结构边缘的位置难以控制,对于横跨悬空及非悬空部分的图形加工更是难以实现。 聚焦离子束技术(FIB,Focused Ion beam)是通过将离子源产生的离子束经过加速后聚焦作用于样品表面,可以产生二次电子信号图像,也可以用于微纳加工或结合其他反应进行沉积。聚焦离子束技术自产生以来就引起了人们的广泛关注,在芯片电路修改、截面分析、透射电镜样品制样、材料分析等领域得到了广泛的应用。近年来,聚焦离子束在微纳加工领域中的应用也逐渐发展起来,其无需进行版图加工、涂胶、显影等步骤,具有工艺流程简单,加工方便的优点,在小面积微纳结构加工中具有一定的优势。