阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置
知识产权简介
本发明涉及一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置，该制作方法包括：在栅绝缘层之上形成源极和漏极；在栅绝缘层和源极与漏极之上形成光刻胶；对光刻胶进行蚀刻形成沟道区，以露出源极和漏极之间的栅绝缘层，以及部分源极和部分漏极；在沟道区形成有源层，以覆盖漏出的栅绝缘层、部分源极和部分漏极。通过本发明的技术方案，可以先形成源极和漏极，然后通过光刻胶形成沟道区，进而在沟道区直接形成有源层，无需对形成有源层的半导体材料进行蚀刻，从而避免对有源层造成损伤。